석영 벽시계 운동 기계 기계를 만드는 자동 생산 라인 시계 메커니즘 키트

Quartz Clock Movements Machine 은 표준화된 생산, 최저 결함률, 더 높은 최종 제품 품질 및 더 낮은 인건비와 같은 장점을 지닌 비표준 맞춤형 제품입니다.

Quartz Clock Movement Machine은 지금까지 전 세계에서 다양한 유형과 크기의 시계 무브먼트를 제조하는 가장 자동화된 시스템입니다. 우리의 기계는 표준화된 생산, 가장 낮은 결함률, 더 높은 최종 제품 품질 및 더 낮은 인건비와 같은 장점을 지닌 비표준 맞춤형 제품입니다.

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제품 소개: 대물렌즈와 조리개는 전동식으로 전환되어 더욱 편리하고 효율적인 작동이 가능합니다. 12인치 초대형 이동 스테이지를 탑재하여 반도체 및 FPD(평면 패널 디스플레이) 검사에 최적의 환경을 제공합니다. 명시야, 암시야, 편광, DIC(미분 간섭 대비) 등 다양한 관찰 방법을 지원하여 고객의 특정 요구에 가장 적합한 솔루션을 제공합니다. 매개변수 형식: 매개변수 광학 시스템 무한대 와이 기음 색깔- 기음 수정됨 영형 광학 에스 시스템 관찰관 명시야 / 암시야 / 편광 / DIC 관찰관 무한대 시간 잉게 티 비강 티 우베, 0-35° 경사 에이 조절 가능한, 이자형 직각 나 마술사 동공간 디 간격: 50-76mm 빔 에스 분할 아르 자형 비율: 100:0 또는 0:100 접안 렌즈 최고점 이자형 예포인트 W 아이드필드 피 란 이자형 yepiece PL10X/25mm, 디 아이옵터 에이 조절 가능한, 영형 선택 사항 에스 화롯불 에스 케일 기음 로스 아르 자형 에티클 대물렌즈 무한대 비 우익수/ 디 아크필드 에스 emi- 에이 포크로매틱 중 금속 융해 DIC 영형 목표 (5배, 10배, 20배, 50배, 100배) 무한대 엘 옹 W 오킹 디 거리(LWD) 비 우익수/ 디 아크필드 에스 emi- 에이 포크로매틱 중 금속 융해 DIC 영형 목표 20배 무한대 엘 옹 W 오킹 디 거리(LWD) 비 우익수/ 디 아크필드 에스 emi- 에이 포크로매틱 중 금속공학 영형 목표 (50배, 100배) 코받침 6포지션 중 모터화된 비 우익수/ 디 아크필드 N DIC가 있는 액자 에스 많은 스탠드 그룹 반사적 에스 스탠드: 나 기울어진 이자형 인체공학 기음 이축 기음 노를 젓다/ 에프 아인 에프 초점을 맞추다 케이 노브 조잡한 에스 스트로크: 35mm, 미세 조정 에프 오쿠스 나 증분: 0.001mm ~을 갖추고 에이 미끄럼 방지 티 장력 에이 조정 및 피 아랄락스 에스 맨 위 중 메커니즘. 100-240V 내장 W 아이디어 다섯 전압 에스 시스템 전송/반사 에스 스탠드: 나 기울어진 이자형 인체공학 기음 이축 기음 노를 젓다/ 에프 아인 에프 초점을 맞추다 케이 노브 조잡한 에스 스트로크: 35mm, 미세 조정 에프 오쿠스 나 증분: 0.001mm ~을 갖추고 에이 미끄럼 방지 티 장력 에이 조정 및 피 아랄락스 에스 맨 위 중 메커니즘. 100-240V 내장 W 아이디어 다섯 전압 에스 시스템 단계 수동 에스 태그: 아르 자형 라이트- 시간 그리고 14×12 나 nch 티 셋- 엘 에이어 중 기계적인 에스 태그 포함 엘 ow- 피 프로필 기음 이축 X/Y 기음 컨트롤 피 플랫폼 디 크기: 710mm×420mm 티 얽힘 아르 자형 크기: 356mm×305mm ~을 갖추고 기음 러치 시간 안들 아르 자형 빠른 중 움직임; 반사적 에스 스탠드에는 다음이 포함됩니다 중 etal 피 플랫폼, 투과형/반사형 에스 스탠드에는 다음이 포함됩니다 g 라스 에스 피 플랫폼 모터화된 에스 태그: 크기: 495mm×641mm, 이동 거리 아르 자형 크기: 306mm×306mm; 소프트웨어 제어 X/Y축 중 움직임, 반복성 에이 정확도: (3+L/50)μm ~을 갖추고 에프 위도 피 플랫폼 조명 시스템 밝은 시야/어두운 시야 아르 자형 반사적인 나 조명 장치 포함 중 모터화된 다섯 ariable 에이 조리개 디 횡격막과 에프 들판 디 횡격막 ( 비 다른 기음 입력 가능) ~을 갖추고 비 우익수/ 디 아크필드 나 조명 에스 매혹적인 중 메커니즘 포함되는 사항 에프 필터 에스 뚜껑과 피 편광 에스 많은 이미징 시스템 0.35배/0.5배/0.65배/1배 C-마운트 기음 아메라 에이 어댑터, 에프 오쿠스 에이 조절 가능한 기타 편광판 에스 리더, 에프 혼합된 에이 분석기 에스 리더, 나 간섭 에프 필터 에스 et for 아르 자형 반사; 고정밀 중 아이크로미터 딕 기음 구성 요소 기계 전시: